Поиск
Дополнительное меню

Новости ИТ-бизнеса для Профессионалов

21 ноября : вторник

Курсы

USD ЦБ РФ 20/11 59.9898 0
EUR ЦБ РФ 20/11 70.704 0
EUR/USD 20/11 1.1786 0

Intel откладывает покупку EUV-сканера

06.02.2008 15:32
Автор: Вячеслав Кононов

Согласно имеющейся информации, корпорация Intel отказалась от закупки тестового (alpha tool) сканера для EUV-литографии (литография с использованием жесткого ультрафиолетового излучения, вакуумная литография) у японской корпорации Nikon. Как сообщает источник из среды производителей полупроводникового оборудования, Nikon намеревалась предоставить Intel тестовый образец EUV-сканера до конца прошлого года, однако не смогла уложиться в срок. В конце концов, по данным источника, обе компании договорились о продолжении исследований в токийской лаборатории, поскольку "доставка оборудования заняла бы слишком много времени".

В любом случае, данное событие является еще одним подтверждением глубокого "кризиса идеи", постигшего EUV-литографию. Первоначально технология была предназначена для производства микросхем по 45-нм проектным нормам, сейчас сроки ее внедрения отнесены как минимум до 2011 года к моменту старта 22-нм производства. Часть отраслевых экспертов и вовсе полагают, что технологии не суждено дойти до коммерческого применения, хотя бы ввиду высокой стоимости оборудования. Так, по расчетам аналитиков, цена только одного сканера в будущем может составить от 60 до 100 миллионов долларов США.

Однако в стане оппонентов вакуумной литографии дела обстоят ничуть не лучше. Конкурирующие методики, такие как иммерсионная оптическая литография с двойным экспонированием (immersion lithography with double patterning), наноимпринт литография (nano-imprint lithography) или электроннолучевая литография множественным пучком (multi-beam e-beam lithography), являются скорее раздражителями, а не настоящей альтернативой, поскольку находятся на еще большем расстоянии от коммерческого воплощения, чем EUV-литография.

Напомним, что главными проводниками EUV-литографии являются корпорация Intel, два крупнейших производителя флэш-памяти Samsung и Toshiba, а также целая группа производителей чипов оперативной памяти, объединенных под одним знаменем бельгийским исследовательским центром IMEC. Производством оборудования для EUV-литографии, кроме Nikon, занята еще и голландская ASML, уже успевшая отгрузить два сканера: американской лаборатории Albany Nanotech и вышеупомянутой IMEC.

Источник: 3DNews

06 февраля